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確定材料熔點(diǎn)的最基本方法是簡單地加熱固體晶胞直至熔化。實(shí)際上，這意味著運(yùn)行NVT或NPT系綜動(dòng)力學(xué)模擬，同時(shí)在運(yùn)行過程中增加恒溫器溫度，以模擬真實(shí)實(shí)驗(yàn)的方式。然而，由于分子動(dòng)力學(xué)中可用的時(shí)間尺度很小，加熱速率非常高。這一點(diǎn)，再加上小的系統(tǒng)尺寸導(dǎo)致過熱，因此僅提供熔化溫度的上限。以類似的方式，液體也可以冷卻直到結(jié)晶，從而產(chǎn)生滯回線，在其間可以找到熔化溫度。
一個(gè)稍微復(fù)雜的過程是共存方法，其中固液界面晶胞在接近預(yù)測熔化溫度的溫度下構(gòu)建。此方法中的主要計(jì)算通常在 NVE 或 NPH 系綜中執(zhí)行。如果整個(gè)系統(tǒng)的溫度低于熔化溫度，則晶胞的某些區(qū)域?qū)⒔Y(jié)晶，產(chǎn)生潛熱并提高溫度。同樣，如果溫度過高，一些晶胞會(huì)熔化，冷卻系統(tǒng)。通過這種方式，分子動(dòng)力學(xué)計(jì)算運(yùn)行足夠長的時(shí)間將平衡到熔化溫度。
論文“通過分子動(dòng)力學(xué)精確計(jì)算熔化曲線-Precise calculation of melting curves by molecular dynamics”（Karavaev，2016）很好地概述了可用于確定熔點(diǎn)的不同方法。
除了評(píng)估熔點(diǎn)外，共存方法還可用于獲得相關(guān)屬性，例如固液界面剛度或能量，這些屬性可用作粗粒度方法（如相場模型）中的參數(shù)。
簡介：本教程向您展示如何使用共存法計(jì)算fcc銅的熔化溫度。您將使用(Asadi，2015)中描述的方法的修改和簡化版本。
目的：介紹了利用Forcite和嵌入原子法力場用共存法計(jì)算金屬熔點(diǎn)的方法。
本教程重要節(jié)點(diǎn)：
創(chuàng)建力場-平衡晶體-平衡液體-構(gòu)建共存晶胞-確定熔化溫度
1. 創(chuàng)建力場
首先需要一個(gè)合適的力場，Materials Studio中包含幾個(gè)EAM力場。但是，可能需要使用不同的、更適合具體研究體系的力場，或者需要使用標(biāo)準(zhǔn)Materials Studio力場中未包含的元素。EAM 力場通常以幾種標(biāo)準(zhǔn)格式之一的表格形式發(fā)布，Materials Studio包含一個(gè)腳本，用于將這些格式轉(zhuǎn)換為.off格式。還提供了兩個(gè)包含表格化EAM數(shù)據(jù)的示例文件，本教程中將使用其中一個(gè)。
單擊Import按鈕并導(dǎo)航到Examples\Scripting文件夾。確保選中All Files (*.*)，然后雙擊ConvertEAMtoOFF.pl。
再次單擊Import按鈕并雙擊CuNi_Example.eam.alloy.txt。
在Project Explorer中，雙擊ConvertEAMtoOFF.pl。將輸入文件名（第35行附近）更改為CuNi_Example.eam.alloy，然后按下CTRL+S鍵。
在Scripting工具欄上，單擊Debug按鈕。
提示：可以將EAM轉(zhuǎn)換腳本添加到User菜單命令中，并將輸入文件名作為參數(shù)。有關(guān)更多信息，請(qǐng)參閱User菜單教程中的執(zhí)行腳本（Executing scripts）教程。
腳本現(xiàn)在應(yīng)該運(yùn)行，并創(chuàng)建一個(gè)名為CuNi_Example.eam.alloy.off的力場文件。打開并查看力場。
打開CuNi_Example.eam.alloy.off力場，選擇Interactions選項(xiàng)卡。打開Show interaction下拉菜單。
EAM力場由三種類型的相互作用組成：電子密度、嵌入函數(shù)和EAM對(duì)勢。
一對(duì)原子i和j的電子密度函數(shù)描述了原子j對(duì)i受到的電子密度的貢獻(xiàn)。對(duì)i的所有鄰域求和，得到總電子密度ρ，它構(gòu)成嵌入函數(shù)的輸入。接下來，將為銅創(chuàng)建嵌入函數(shù)的圖像。
將Show interaction設(shè)置為Embedding Function。選擇Cu力場類型的行。
在Interactions選項(xiàng)卡的頂部，單擊Extract To。
創(chuàng)建一個(gè)包含兩列的數(shù)據(jù)表，其中包含一系列密度的嵌入能量。
在數(shù)據(jù)表中選擇A列和B列。單擊Study Table Viewer工具欄上的Quick Plot按鈕
圖中顯示了當(dāng)銅原子嵌入給定電子密度的場中時(shí)，所儲(chǔ)存的能量。在密度為0時(shí)，嵌入能量為0，并且隨著密度的增加，嵌入能量（負(fù)值）的絕對(duì)值增加。在一定密度下，嵌入能量變得不那么有利。
將Show interaction設(shè)置為EAM Pair Potential。選擇用于Cu和Cu力場類型組合的行。在Interactions選項(xiàng)卡的頂部，單擊Extract To。
在數(shù)據(jù)表中，選擇A列和B列，然后單擊Quick Plot按鈕
EAM對(duì)勢在很大程度上是排斥的，可以防止原子在嵌入能的作用下坍塌。
從菜單欄中選擇File | Save Project，然后選擇Window | Close All。
2. 平衡晶體
下一步是導(dǎo)入fcc Cu結(jié)構(gòu)。
單擊Import按鈕，導(dǎo)航至Structures\metals\pure-metals文件夾，雙擊Cu.xsd文件。選擇File | Save As...，將其重命名為Cu_Solid。
要進(jìn)行真實(shí)的分子動(dòng)力學(xué)模擬，需要比單胞中的4個(gè)原子多得多的原子數(shù)。
選擇Build | Symmetry | Supercell，打開Supercell對(duì)話框。將三個(gè)維度上的Supercell range均設(shè)置為10，單擊Create Supercell按鈕，關(guān)閉對(duì)話框。
將使用此結(jié)構(gòu)作為共存計(jì)算的固體區(qū)域的基礎(chǔ)。首先，在開始NPT運(yùn)行之前，使用NVT系綜進(jìn)行短時(shí)間計(jì)算，以減少應(yīng)力。由于這是一個(gè)初始構(gòu)型平衡計(jì)算，將使用速度標(biāo)度恒溫方法，它能夠非?？焖俚匦Ｕ齽?dòng)能。
單擊Modules工具條上的Forcite按鈕，從下拉菜單中選擇Calculation，或從菜單欄中選擇Modules | Forcite | Calculation。
將Task設(shè)置為Dynamics，單擊More...按鈕，打開Forcite Dynamics對(duì)話框。將Ensemble設(shè)置為NVT，Temperature設(shè)置為1200 K，F(xiàn)rame output every設(shè)置為500。在Thermostat選項(xiàng)卡中，選擇Velocity Scale為Thermostat，關(guān)閉對(duì)話框。
在Energy選項(xiàng)卡中，從Forcefield下拉菜單中選擇Browse...，然后在Choose Forcefield對(duì)話框中，選擇CuNi_Example.eam.alloy.off。
使用EAM表格化力場時(shí)，無需設(shè)置截?cái)嗑嚯x。在使用EAM時(shí)，F(xiàn)orcite將始終使用表格的全部范圍。
注意：范德華表格化勢能的情況并非如此。使用通常的范德華項(xiàng)截?cái)嗑嚯x，可在Forcite Non-Bond Options對(duì)話框上設(shè)置。
單擊Run按鈕，并關(guān)閉對(duì)話框。
當(dāng)NVT運(yùn)行后，將創(chuàng)建一個(gè)新的文件夾Cu_Solid Forcite Dynamics。計(jì)算任務(wù)完成后，NVT動(dòng)力學(xué)計(jì)算的結(jié)果將存儲(chǔ)在此文件夾中。
接下來，從軌跡的最后一幀開始運(yùn)行NPT動(dòng)力學(xué)計(jì)算。這確保晶格參數(shù)具有當(dāng)前力場的正確平衡值，這可能與實(shí)驗(yàn)值略有不同。Andersen恒壓方法只允許晶胞中的各向同性變化，這是合適的，因?yàn)榫О麘?yīng)保持立方體。速度標(biāo)度恒溫方法可以以非物理方式改變原子的動(dòng)力學(xué)，這可能會(huì)影響計(jì)算結(jié)果，因此建議使用NHL恒溫方法。這對(duì)體系的擾動(dòng)影響要小得多，因此最好用于構(gòu)型生產(chǎn)運(yùn)行。
確保Cu_Solid Forcite Dynamics\Cu_Solid.xsd為當(dāng)前文檔，并打開Forcite Calculation對(duì)話框，單擊Setup選項(xiàng)卡上的More...按鈕。
將Ensemble設(shè)置為NPT，Total simulation time設(shè)置為25 ps，Pressure設(shè)置為0.000101325 GPa。
在Thermostat選項(xiàng)卡中，將Thermostat設(shè)置為NHL，Q ratio設(shè)置為1。
在Barostat選項(xiàng)卡中，將Barostat設(shè)置為Andersen。關(guān)閉對(duì)話框。
單擊Run按鈕，關(guān)閉對(duì)話框。
將在現(xiàn)存的Cu_Solid Forcite Dynamics文件夾中，建立一個(gè)新的文件夾Cu_Solid Forcite Dynamics。當(dāng)計(jì)算運(yùn)行時(shí)，可以開始建立液體晶胞。
當(dāng)計(jì)算運(yùn)行時(shí)，應(yīng)保存工程。
從菜單欄中選擇File | Save Project，然后選擇Window | Close All。
3. 平衡液體
現(xiàn)在需要在高于熔化溫度的溫度下確定液態(tài)銅的密度。實(shí)驗(yàn)測定的熔點(diǎn)處，液態(tài)銅的密度為8.02 g/cm3。然而，此處使用的原子間勢可能會(huì)產(chǎn)生不同的值。
將使用Amorphous Cell模塊創(chuàng)建初始液態(tài)幾何構(gòu)型，并使用分子動(dòng)力學(xué)對(duì)此進(jìn)行平衡。這將在以后用于構(gòu)建共存單元。
要使用Amorphous Cell模塊創(chuàng)建液態(tài)單位晶胞，應(yīng)從包含單個(gè)銅原子的原子文檔開始。
選擇工程根目錄并創(chuàng)建一個(gè)新的3D原子結(jié)構(gòu)文檔3D Atomistic Document，將其重命名為Cu_Atom。
繪制一個(gè)銅原子。保存并關(guān)閉文檔。
現(xiàn)在，將使用Amorphous Cell模塊創(chuàng)建初始液態(tài)幾何構(gòu)型。由于目的只是在無序狀態(tài)下創(chuàng)建初始構(gòu)型，因此可以使用默認(rèn)的力場Universal。
從菜單欄中選擇Modules | Amorphous Cell | Calculation，打開Amorphous Cell Calculation對(duì)話框。
在Composition列表中，單擊Molecule列，從下拉列表中選擇Cu_Atom.xsd。將Loading設(shè)置為4000 ，Density設(shè)置為8.02。
單擊Options...按鈕，打開Amorphous Cell Options對(duì)話框。取消勾選Optimize geometry復(fù)選框，關(guān)閉對(duì)話框。
在Project Explorer單擊樹狀根目錄，單擊Run按鈕，開始結(jié)構(gòu)創(chuàng)建過程。關(guān)閉對(duì)話框。
在Project Explorer中將創(chuàng)建一個(gè)新文件夾Cu_Atom AC Construct。
當(dāng)Amorphous Cell計(jì)算任務(wù)結(jié)束后，將輸出軌跡的單幀復(fù)制到一個(gè)新的原子結(jié)構(gòu)文檔中。
使得Cu_Atom AC Construct\Cu_Atom.xtd為當(dāng)前文檔。從菜單欄中選擇Edit | Select All，然后選擇Edit | Copy。
在工程根目錄中創(chuàng)建一個(gè)新的3D原子結(jié)構(gòu)文檔，右鍵單擊該文檔，從菜單欄中選擇Edit | Paste。
將該文檔重命名為Cu_Liquid并保存。
現(xiàn)在，將在1500 K下建立平衡結(jié)構(gòu)密度。將重復(fù)前面用于固體的步驟，這次使用更高的溫度。
打開Forcite Dynamics Calculation對(duì)話框。將Ensemble設(shè)置為NVT，Total simulation time設(shè)置為5 ps，Temperature設(shè)置為1500 K。
在Thermostat選項(xiàng)卡中，將Thermostat設(shè)置為Velocity Scale。關(guān)閉對(duì)話框。
單擊Forcite Calculation對(duì)話框上的Run按鈕。
將創(chuàng)建一個(gè)新文件夾Cu_Liquid Forcite Dynamics，NVT計(jì)算結(jié)果將保存在該文件夾中。等待此計(jì)算完成，然后繼續(xù)進(jìn)行NPT動(dòng)力學(xué)模擬。
由于該體系是一種液體，可以置入任何形狀的單位晶胞中，因此可以要求模擬單位晶胞保持立方體。因此，Andersen恒壓方法仍然適用。
確保Cu_Liquid Forcite Dynamics\Cu_Liquid.xsd為當(dāng)前文檔。
打開Forcite Dynamics對(duì)話框，將Ensemble設(shè)置為NPT，Total simulation time設(shè)置為25 ps。在Thermostat選項(xiàng)卡中，將Thermostat設(shè)置為NHL。關(guān)閉對(duì)話框。
單擊Run按鈕，開始計(jì)算，并關(guān)閉對(duì)話框。
與之前一樣，在現(xiàn)存的Cu_Liquid Forcite Dynamics文件夾中，將創(chuàng)建一個(gè)新的文件夾Cu_Liquid Forcite Dynamics?，F(xiàn)在應(yīng)該等待所有正在運(yùn)行的計(jì)算完成。完成后，將
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1.整個(gè)界面右上方的界面下拉菜單可選擇布局，也可手動(dòng)拖拽自定義布局并保存。右邊的小放大鏡可以搜索C4D所有的功能、命令等。
2.工具欄和菜單都可以自定義并保存。
3.視圖右上角四個(gè)小圖標(biāo)：移動(dòng)、縮放、旋轉(zhuǎn)和切換到分割視圖。
視圖上點(diǎn)鼠標(biāo)中鍵可顯示透視視圖和三視圖。
4.alt+鼠標(biāo)左鍵旋轉(zhuǎn)視圖，E+鼠標(biāo)左鍵移動(dòng)，R+鼠標(biāo)左鍵旋轉(zhuǎn)，T+鼠標(biāo)左鍵縮放。ctrl+R渲染，alt+R交互式區(qū)域渲染。ctrl+tab進(jìn)入全屏。
1.第一欄：顯示物體及其層級(jí)關(guān)系。選中物體，ctrl+鼠標(biāo)拖拽即復(fù)制物體。
第二欄：第一個(gè)方框設(shè)置物體所在圖層。兩個(gè)點(diǎn)默認(rèn)灰色，上面的點(diǎn)點(diǎn)一下變綠表示強(qiáng)制在視圖里可見，再點(diǎn)一下變紅表示在視圖里不可見；下面的點(diǎn)變綠表示強(qiáng)制在渲染里可見，變紅表示在渲染里不可見。點(diǎn)擊一個(gè)向下拖拽可以筆刷式批量修改。箭頭表示是否激活對(duì)象。
第三欄：標(biāo)簽欄。
右側(cè)標(biāo)簽有：對(duì)象、場次、內(nèi)容瀏覽器、構(gòu)造。
2.對(duì)象菜單
（1）文件菜單：合并多個(gè)對(duì)象、另存所選對(duì)象為單獨(dú)的C4D文件、導(dǎo)入對(duì)象預(yù)設(shè)、保存對(duì)象預(yù)設(shè)、導(dǎo)入標(biāo)簽預(yù)設(shè)、保存標(biāo)簽預(yù)設(shè)。
（2）編輯菜單：復(fù)制粘貼等常規(guī)操作、全選、全不選、選擇可見對(duì)象、選擇子集。
3.內(nèi)容瀏覽器（相當(dāng)于C4D內(nèi)置的資源管理器）
1.上邊欄圖標(biāo)
左箭頭表示后退操作，上箭頭表示到樹狀結(jié)構(gòu)上一級(jí)。
鎖：鎖定當(dāng)前對(duì)象的參數(shù)。
加號(hào)：彈出新的屬性窗口，編輯其他對(duì)象的參數(shù)。
同心圓：鎖定當(dāng)前對(duì)象的類型。
2.模式（較復(fù)雜的在后期專門介紹）
（1）工程模式
顯示-活動(dòng)對(duì)象：勾選顯示標(biāo)簽，結(jié)合顯示標(biāo)簽，可單獨(dú)對(duì)某個(gè)對(duì)象進(jìn)行顯示設(shè)置。顯示法線。動(dòng)畫路徑。等參線。變形器編輯模式。邊緣點(diǎn)（線模式下顯示點(diǎn)）。旋轉(zhuǎn)帶。輪廓線。
過濾：是否顯示。
視圖：紋理，背面忽視，安全框。
HUD：快捷數(shù)據(jù)顯示。
立體編輯。
3.編輯。復(fù)制粘貼全選設(shè)置為默認(rèn)。
4.基本屬性欄，坐標(biāo)（每個(gè)對(duì)象都有）
P代表軸向移動(dòng)，S代表軸向縮放，R代表軸向旋轉(zhuǎn)
5.層系統(tǒng)管理器
編輯-工程設(shè)置。幀率亞洲一般25幀/秒，渲染設(shè)置的幀率要與工程幀率相匹配。
K關(guān)鍵幀實(shí)現(xiàn)動(dòng)畫效果。
啟用軸心（快捷鍵L），可更改中心點(diǎn)位置。網(wǎng)格-重置中心軸。
（1）顯示
（2）細(xì)分曲面
如果只做邊緣倒角，其他部分形狀保持不變，則把立方體從細(xì)分曲面中拉出來，快捷鍵C轉(zhuǎn)為可編輯對(duì)象。選擇點(diǎn)模式，右鍵-循環(huán)/路徑切割，各個(gè)角都切好后再拖入細(xì)分曲面。
（1）擠壓和內(nèi)部擠壓。新建立方體，快捷鍵C轉(zhuǎn)為可編輯對(duì)象，選擇面模式，右鍵-擠壓/內(nèi)部擠壓。
（2）線性切割、平面切割、循環(huán)/路徑切割。
（3）封閉多邊形孔洞。點(diǎn)模式下用。封閉后多余的點(diǎn)線可以選中刪除，右鍵消除。
（4）優(yōu)化。面模式下刪掉某個(gè)面，切回點(diǎn)模式，已刪除的面的結(jié)構(gòu)點(diǎn)還在，右鍵-優(yōu)化可刪除這些點(diǎn)。光影著色（線條）下優(yōu)化，交點(diǎn)連接。
（1）基礎(chǔ)選擇。框選、多邊形、套索。注意選擇工具的屬性里有一項(xiàng)僅選擇可見元素，根據(jù)需要進(jìn)行勾選。
（2）快捷鍵V，選擇工具，對(duì)應(yīng)快捷鍵。循環(huán)選擇、環(huán)狀選擇、路徑選擇、擴(kuò)展選區(qū)、收縮選區(qū)、全選、轉(zhuǎn)換選擇模式。
（1）燈光類型
燈光：點(diǎn)光源
聚光燈
目標(biāo)聚光燈：大綱里有一個(gè)燈光目標(biāo)（空白），方便調(diào)整燈光角度
區(qū)域光：面光，向兩邊照射，光線較柔和
IES燈：建筑用光，需匹配場景
遠(yuǎn)光燈：有方向無范圍
日光：模擬太陽光
（2）燈光屬性
顏色、強(qiáng)度
投影：陰影貼圖（軟陰影）效果較真實(shí)，光線跟蹤（強(qiáng)烈）影子較銳利，區(qū)域陰影最接近真實(shí)陰影但渲染較慢，可對(duì)陰影屬性進(jìn)行設(shè)置。
工程的排除和包括，設(shè)置某個(gè)對(duì)象是否顯示高光、陰影等。
（1）新建攝像機(jī)。點(diǎn)大綱里攝像機(jī)后面的方框圖案即進(jìn)入攝像機(jī)。編輯渲染設(shè)置-輸出，設(shè)置攝像范圍。攝像機(jī)類型：基礎(chǔ)攝像機(jī)、目標(biāo)攝像機(jī)、立體攝像機(jī)（3D）、運(yùn)動(dòng)攝像機(jī)（模擬手持?jǐn)z像機(jī)）、搖臂攝像機(jī)。
物理天空、天空（自定義）。
自定義天空需要材質(zhì)來給照明信息。渲染設(shè)置-選項(xiàng)-默認(rèn)燈光，先關(guān)閉。雙擊材質(zhì)欄，拖動(dòng)到大綱的天空處，雙擊材質(zhì)打開材質(zhì)編輯器，只勾選發(fā)光。
渲染設(shè)置-效果-全局光照，模擬環(huán)境中所有光照信息，渲染出的光照非常均勻柔和。
HDR貼圖。打開材質(zhì)編輯器，窗口-內(nèi)容瀏覽器，搜索HDR（高動(dòng)態(tài)范圍圖像，記錄環(huán)境中的燈光信息），選中目標(biāo)圖片拖動(dòng)到材質(zhì)編輯器的紋理處。
（1）新建一個(gè)地面和一個(gè)球體，分別為它們新建兩個(gè)材質(zhì)。
為球體某部分著色：轉(zhuǎn)為可編輯模式，選擇面模式，選擇目標(biāo)面，新建材質(zhì)，修改顏色，將該材質(zhì)直接拖動(dòng)到目標(biāo)面上。大綱中顯示的小三角為選集標(biāo)簽。同一個(gè)物體用不同材質(zhì)時(shí)，大綱后面的紋理標(biāo)簽有層級(jí)關(guān)系，后面的標(biāo)簽是上層。
（2）材質(zhì)編輯器。前面有圓圈的屬性可以K幀。
漫射：表面不平整的物體，常用于突出細(xì)節(jié)
透明：設(shè)置折射率等參數(shù)模擬透明物體
反射：需要環(huán)境。層-添加-傳統(tǒng)反射，設(shè)置反射強(qiáng)度、層顏色。
運(yùn)動(dòng)圖形-克隆，新建立方體，拖動(dòng)到克隆子集。
（1）對(duì)象屬性
模式選擇對(duì)象，新建一個(gè)圓環(huán)，將大綱里的圓環(huán)拖動(dòng)到對(duì)象欄，則克隆的立方體都附著在圓環(huán)上。
模式選擇線性，模式可選每步和終點(diǎn)。調(diào)整XYZ軸控制排列位置，XYZ軸縮放、旋轉(zhuǎn)，針對(duì)每個(gè)對(duì)象漸次變化的。前面這個(gè)旋轉(zhuǎn)不同于步幅旋轉(zhuǎn)的效果。
（2）變換屬性
（1）對(duì)象屬性
（2）封頂屬性
幾種封頂方式中常用圓角封頂。圓角類型有線性、凸起、凹陷、半圓等。
（3）運(yùn)動(dòng)圖形文本和畫筆文本的區(qū)別
轉(zhuǎn)為可編輯模式后，運(yùn)動(dòng)圖形的文本被拆分為單個(gè)字母，畫筆的文本則是一個(gè)整體。
先網(wǎng)格克隆立方體，選擇克隆，新建隨機(jī)效果器。隨機(jī)模式選噪波為動(dòng)態(tài)。
選擇衰減形狀，只有在形狀內(nèi)的物體才會(huì)被隨機(jī)，可對(duì)形狀K位移、旋轉(zhuǎn)幀。
（2）著色。
（1）扭曲。新建立方體和扭曲，把扭曲放在立方體子集。注意層級(jí)關(guān)系：綠-淺藍(lán)-深藍(lán)（由外向內(nèi)）。首先要增加立方體分段數(shù)才能實(shí)現(xiàn)扭曲。調(diào)節(jié)扭曲參數(shù)。
（2）螺旋。
（3）樣條約束。樣條約束放在立方體子集，畫筆-圓環(huán)，把圓環(huán)放在樣條約束屬性的樣條里。曲線圖任意位置ctrl+鼠標(biāo)可添加點(diǎn)。
（4）減面?？芍谱鱨owpoly效果。
新建地面和球體，大綱球體處右鍵-模擬標(biāo)簽，有剛體、柔體、碰撞體、布料等。
此處球體選擇剛體，地面選擇碰撞體，C4D自動(dòng)產(chǎn)生重力，可ctrl+D調(diào)出工程設(shè)置-動(dòng)力學(xué)，進(jìn)行設(shè)置。
動(dòng)力學(xué)-激發(fā)，立即、在峰速（設(shè)關(guān)鍵幀）、開啟碰撞。
碰撞-獨(dú)立元素，關(guān)閉、全部。
新建地面、立方體網(wǎng)格克隆和球體，球體為碰撞體或剛體，克隆為剛體，激發(fā)都選擇開啟碰撞，克隆的碰撞獨(dú)立元素選擇全部，為球體添加位移動(dòng)畫去碰撞克隆體。
新建地面和立方體，地面碰撞體，立方體柔體。新建細(xì)分曲面，把立方體放在細(xì)分曲面子集下，轉(zhuǎn)為可編輯模式。柔體屬性，彈簧、保持外形、壓力，其中常用的參數(shù)有構(gòu)造、彎曲、硬度、壓力。
（1）用布料做桌布。
新建一個(gè)平面，組合一個(gè)桌子，再新建一個(gè)平面放在桌子上方做桌布。地面和桌子都是布料碰撞器，桌布為布料，并轉(zhuǎn)為可編輯模式。將桌布細(xì)分曲面會(huì)使桌布更柔軟，與桌布接觸的桌面也要細(xì)分夠，否則會(huì)穿破桌布。
（2）用布料做飄揚(yáng)的旗幟。
新建平面，旋轉(zhuǎn)為豎向，轉(zhuǎn)為可編輯模式，添加布料。選擇點(diǎn)模式，框選左邊一列點(diǎn)，布料-修整-固定點(diǎn)-設(shè)置。
布料-影響，調(diào)整風(fēng)力強(qiáng)度、風(fēng)力方向、湍流等。
模擬-粒子發(fā)射器。新建寶石，拖動(dòng)到粒子發(fā)射器子集里，發(fā)射器-粒子，勾選顯示對(duì)象，即替換粒子為寶石。常用屬性有投射起點(diǎn)、投射終點(diǎn)、速度、生命、旋轉(zhuǎn)。
做一個(gè)碗：新建球體-半球體，轉(zhuǎn)為可編輯模式，選擇面模式，ctrl+A選擇所有面，右鍵-擠壓（注意要勾選創(chuàng)建封頂才會(huì)有厚度）。寶石為剛體，碗為碰撞體，注意要選中球體力學(xué)里的碰撞標(biāo)簽，其中的外形選擇自動(dòng)（MoDynamics）。
（1）顯示。通過K幀來控制可見與否，常用于環(huán)境美化。
（2）振動(dòng)。常用于制作隨機(jī)動(dòng)畫，啟用位置、縮放、旋轉(zhuǎn)。
（3）對(duì)齊曲線。常用于攝像機(jī)和物體的路徑動(dòng)畫。
新建立方體，一個(gè)XY方向圓環(huán)，一個(gè)目標(biāo)攝像機(jī)，攝像機(jī)對(duì)象設(shè)為立方體，為攝像機(jī)添加對(duì)齊曲線，將圓環(huán)拖動(dòng)到攝像機(jī)對(duì)齊曲線的曲線路徑上，通過K位置關(guān)鍵幀實(shí)現(xiàn)攝像機(jī)繞著圓環(huán)拍攝立方體。
（4）合成。
重慶分公司
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