這篇文章將為大家詳細(xì)講解有關(guān)怎么利用Stencil來(lái)優(yōu)化局部后處理特效，文章內(nèi)容質(zhì)量較高，因此小編分享給大家做個(gè)參考，希望大家閱讀完這篇文章后對(duì)相關(guān)知識(shí)有一定的了解。

創(chuàng)新互聯(lián)是網(wǎng)站建設(shè)技術(shù)企業(yè)，為成都企業(yè)提供專業(yè)的網(wǎng)站建設(shè)、成都做網(wǎng)站，網(wǎng)站設(shè)計(jì)，網(wǎng)站制作，網(wǎng)站改版等技術(shù)服務(wù)。擁有10多年豐富建站經(jīng)驗(yàn)和眾多成功案例，為您定制適合企業(yè)的網(wǎng)站。10多年品質(zhì)，值得信賴！

只是例子就不要再和我說(shuō)什么十字片，廣告牌疊加了。這個(gè)效果的實(shí)現(xiàn)就是用純色在RT上重繪原模型給一次高斯模糊后疊回原圖。

加了Stencil后計(jì)算量下降了一半（為方便對(duì)比，我砍掉了后處理流程最后的原圖Blit流程和人物繪制部分，僅顯示了downsample和高斯模糊的量）

原理：

Stencil和ZTest就如同兩兄弟，非常相似，但前者卻常常被忽略。大家都知道，在擁有Early-Z（準(zhǔn)確的說(shuō)是Early-ZS，也就是Z+Stencil）機(jī)制的當(dāng)代GPU里，我們可以通過(guò)由前向后繪制，通過(guò)ZTest讓被遮擋的物體免于繪制，這是一個(gè)最基本的fillrate優(yōu)化手段。

Stencil本身是一個(gè)比較+改寫特定Buff的技術(shù)，和ZTest的比較深度+改寫深度其實(shí)是一樣的機(jī)制，只是擁有更多的變化。所以它也可以通過(guò)先改寫B(tài)uff，然后讓后面的物體在讀取這個(gè)Buff的時(shí)候檢測(cè)不通過(guò)，從而直接跳過(guò)像素計(jì)算階段。

局部物體使用后處理特效很不合算，就是因?yàn)榧词怪挥芯植啃枰?jì)算，GPU也必須計(jì)算整個(gè)屏幕。如果先用Stencil在屏幕上繪制一個(gè)標(biāo)記區(qū)域，就可以將后面的計(jì)算限定在小范圍內(nèi)。

用的是一個(gè)簡(jiǎn)單的法線延伸OutLine，擴(kuò)大了棒子的體積。并在繪制過(guò)的地方標(biāo)記Stencil為1

Pass
{
	CULL OFF
	ZTest OFF
	COLORMASK 0

	Stencil
	{
		Ref 1
		Comp NotEqual
		Pass Replace
		ReadMask 1
		WriteMask 1
	}

	CGPROGRAM
	#pragma vertex vert
	#pragma fragment frag
			
	#include "UnityCG.cginc"
	struct appdata
	{
		float4 vertex : POSITION;
		float3 normal : NORMAL;
	};

	struct v2f
	{
		float4 vertex : SV_POSITION;
	};

	float _Outline;

	v2f vert (appdata v)
	{
		v2f o;
		o.vertex = UnityObjectToClipPos(v.vertex);

		float3 norm = mul((float3x3)UNITY_MATRIX_IT_MV, v.normal);  
		float2 offset = TransformViewToProjection(norm.xy);  
		o.vertex.xy += normalize(offset) * o.vertex.z * _Outline;  

		UNITY_TRANSFER_FOG(o,o.vertex);
		return o;
	}

	fixed4 frag (v2f i) : SV_Target
	{
		return 1;
	}

	ENDCG
}

然后再在之后的后處理流程里，給需要的Pass加上

Stencil
{
	Ref 1
	Comp Equal
	Pass Keep
	ReadMask 1
	WriteMask 1
}

即可。

不過(guò)……

1. Stencil只能通過(guò)繪制實(shí)體來(lái)寫入，不能在多張Buff間復(fù)制。所以一旦經(jīng)過(guò)downsample就會(huì)丟失，而downsample是后處理中非常常見的。

2. 由于這個(gè)原因，RT繪制的順序也非常重要，只有作為繪制目標(biāo)的RT才有獲得Stencil檢測(cè)的機(jī)會(huì)。

3.Stencil在其他RT中的利用，只能通過(guò)Graphics.SetRenderTarget(source.colorBuffer, stencil.depthBuffer)來(lái)完成，指向一張RT的顏色Buffer，卻同時(shí)指向另一張RT的depthBuff，且這兩張RT的分辨率必須完全一樣。

具體代碼（普通的Blit是沒(méi)法用的，會(huì)強(qiáng)制切換RenderTarget）：

private void DepthBlit(RenderTexture source, RenderTexture destination, Material mat, int pass, RenderTexture depth)
{
            if (depth == null)
            {
                Graphics.Blit(source, destination, mat, pass);
                return;
            }
            Graphics.SetRenderTarget(destination.colorBuffer, depth.depthBuffer);
            GL.PushMatrix();
            GL.LoadOrtho();
            mat.mainTexture = source;
            mat.SetPass(pass);
            GL.Begin(GL.QUADS);
            GL.TexCoord2(0.0f, 1.0f); GL.Vertex3(0.0f, 1.0f, 0.1f);
            GL.TexCoord2(1.0f, 1.0f); GL.Vertex3(1.0f, 1.0f, 0.1f);
            GL.TexCoord2(1.0f, 0.0f); GL.Vertex3(1.0f, 0.0f, 0.1f);
            GL.TexCoord2(0.0f, 0.0f); GL.Vertex3(0.0f, 0.0f, 0.1f);
            GL.End();
            GL.PopMatrix();
}

紋理大小限制是最麻煩的，其它都還好。實(shí)際用法就是，保留保存著Stencil的那張RT，然后在需要的時(shí)候掛接在目標(biāo)RT上。

繪制標(biāo)記是有代價(jià)的，但也可以在繪制正常畫面時(shí)順帶繪制，這樣代價(jià)就小很多。

在可以用到的時(shí)候記得使用即可。

好吧，我知道你們可能會(huì)問(wèn)Bloom本身具體是怎么做的。Bloom本身Unity內(nèi)置后處理有一個(gè)，但是是全屏的。想做到局部，確實(shí)只能單開一張RT來(lái)繪制要泛光的物體。

但這就涉及到保留深度緩沖的問(wèn)題，否則那個(gè)物體就必須顯示在最前面而無(wú)法被障礙物遮擋。因?yàn)橥瑫r(shí)還要切換RT繪制，唯一的辦法就是剛才的Graphics.SetRenderTarget(source.colorBuffer, stencil.depthBuffer)，繪制新RT，同時(shí)使用以前的深度緩沖區(qū)。

我為了圖簡(jiǎn)單，是直接在后處理階段里切換RenderTarget，然后用Graphics.DrawMeshNow來(lái)繪制要泛光的物體的，這會(huì)導(dǎo)致Mesh無(wú)法Batch。想要Batch，必須讓攝像機(jī)來(lái)繪制這些物體，應(yīng)該是必須用到CommandBuffer這些東西。

關(guān)于怎么利用Stencil來(lái)優(yōu)化局部后處理特效就分享到這里了，希望以上內(nèi)容可以對(duì)大家有一定的幫助，可以學(xué)到更多知識(shí)。如果覺(jué)得文章不錯(cuò)，可以把它分享出去讓更多的人看到。